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    分析儀器溫度控制常用器件---半導體制冷片

    返回列表 來源: 發布日期:2023-01-23

    IVD檢測設備需要通過試劑與樣本中的待檢測物質發生反應,通過光或電的方式檢測反應后物質的信號,從而完成樣本中待檢測物的檢測。而檢測試劑對存儲環境有嚴格的要求,一般需要存儲在2-8℃的低溫環境中。

      分析儀器中為試劑提供存儲的區域為試劑倉,需要通過冷源持續為試劑倉提供制冷,從而保證試劑倉內溫度始終維持在適宜的溫度范圍內。

      常用的冷源包括兩大類:

      半導體制冷:優點是體積小,工作時震動和噪音小,無需制冷劑,無污染,缺點是制冷效率低,功耗大。

      壓縮機制冷:優點是制冷效率高,缺點是工作時震動和噪音較大。

      在實際應用中,一般在需求制冷功率相對小的儀器,會選擇采用制冷片制冷的方式,而需求制冷功率大得儀器,選擇采用壓縮機制冷的方式。

      制冷片原理:

      制冷片利用半導體材料的Peltier效應,當直流電通過兩種不同半導體材料串聯成的電偶時,在電偶的兩端即可分別吸收熱量和放出熱量,可以實現制冷的目的。它是一種產生負熱阻的制冷技術,其特點是無運動部件,可靠性也比較高。制冷片俗稱“熱泵”,將熱量從冷端轉移到熱端,從而完成對冷端的制冷。

      在結構上,半導體制冷片中封存了很多N,P半導體,他們聯結在一起,形成眾多的熱電偶對,熱電偶對再串聯、并聯實現工作。當有方向的電流通過是,熱電偶對之間就會產生能量轉移,從一端轉移到另一端,從而產生溫差形成冷熱端。

      標簽:半導體制冷片


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